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2021-06-18






真空镀膜机

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。由于太阳辐射与热辐射光谱在波段上有差异,因此,为了有效地利用太阳热能,就必须考虑采用具有波长选择特性的吸收面。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。

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镀膜机操作程序

真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。

① 检查真空镀膜机各操作控制开关是否在'关'位置。

② 打开总电源开关,设备送电。

③ 低压阀拉出。开充气阀,听不到气流声后,启动升钟罩阀,钟罩升起。

④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位,保证无任何杂质污物。

⑤ 落下钟罩。

⑥ 启动抽真空机械泵。

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常见的真空镀膜材料


氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3,氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。

其它化合物硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,硫1化镉CdS等真空镀膜材料。

金属镀膜材料高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯金Au,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,锌铝合金ZnAl,铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。ST系列镀膜机ST系列镀膜机系我司标准化产品,满足大部分实验室科研需求,丰富的可选配置也可响应您的特殊需要。 

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真空镀膜机检漏

要承认漏气究竟的虚漏仍是实漏,因为工件资料加热后都会在不同程度上发生气体,有也许误以为是从外部流进的气体,这即是虚漏,要扫除这种状况。

第二,测验好真空室的气体密封功能,确保气密功能符合要求。

第三,查看漏孔的巨细,形状、方位,漏气的速度,制备出可处理方案并施行。

第四,断定检查仪器的1小可检漏率和检漏灵敏性,以1大规模的检查出漏气状况,防止一些漏孔被疏忽,进步检漏的准确性。

第五,掌握检漏仪器的反应时刻和消除时刻,把时刻掌握好,确保检漏仪器作业到位,时刻少了,检漏作用必定差,时刻长了,糟蹋检漏气体和人工电费。

第六,还要防止漏孔阻塞,有时因为操作失误,检漏过程中,一些尘埃或液体等把漏孔阻塞了,以为在该方位没有漏孔,但当这些阻塞物因为内外压强区别进步或别的缘由使漏孔不堵了,那漏气仍是存在的。


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